用于化学机械抛光含有钌和铜的衬底的方法

摘要

一种用于化学机械抛光包含钌和铜的衬底的方法。

主权项

一种用于化学机械抛光衬底的方法，其包含：提供抛光机；提供衬底，其中所述衬底包含钌和铜；提供化学机械抛光浆料组合物，其包含以下各者作为初始组分：水；0.1wt％到25wt％研磨剂；0.05wt％到1wt％次氯酸钠或次氯酸钾；0.001wt％到1wt％丙烯酸与甲基丙烯酸的共聚物；0.005wt％到1wt％铜腐蚀抑制剂(优选是BTA)；0wt％到0.01wt％聚甲基乙烯基醚(PMVE)；0wt％到0.1wt％非离子表面活性剂；其中所述化学机械抛光浆料组合物具有8到12的pH；提供化学机械抛光垫；将所述化学机械抛光垫和所述衬底安设在所述化学机械抛光机中；以0.69kPa到34.5kPa的下压力产生在所述化学机械抛光垫与所述衬底之间的动态接触；接近于所述化学机械抛光垫与所述衬底之间的介面分配所述化学机械抛光浆料组合物；其中所述化学机械抛光浆料组合物与所述衬底的钌和铜接触；其中所述衬底被抛光；并且其中一部分所述钌被从所述衬底去除。