发明名称 显示装置与其制造方法
摘要 本发明公开一种显示装置与其制造方法。显示装置包括:基板,其中该基板包括显示区与位于该显示区外侧的边框区;第一金属层,位于该基板的显示区与该边框区之上,其中位于该边框区的第一金属层作为周边栅极及走线,位于该显示区的第一金属层作为像素栅极及黑色矩阵;第一绝缘层,位于该第一金属层之上;主动层,位于该第一绝缘层之上;第二金属层,位于该主动层之上,其中位于该边框区的该周边栅极、该第一绝缘层、该主动层与该第二金属层构成一周边薄膜晶体管元件,位于该显示区的该像素栅极、该第一绝缘层、该主动层与该第二金属层构成像素薄膜晶体管元件;像素电极层,位于第二金属层之上并位于显示区;以及干涉量测调节器位于像素电极层之上。
申请公布号 CN105319702A 申请公布日期 2016.02.10
申请号 CN201410376753.2 申请日期 2014.08.01
申请人 群创光电股份有限公司 发明人 刘侑宗;李淂裕;黄建达
分类号 G02B26/00(2006.01)I 主分类号 G02B26/00(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 陈小雯
主权项 一种显示装置,包括:基板,其中该基板包括显示区与位于该显示区外侧的边框区;黑色矩阵,位于该显示区;像素薄膜晶体管元件,位于该显示区并包括:像素栅极;第一绝缘层,位于该像素栅极之上;主动层,位于该第一绝缘层之上;以及第二金属层,位于该主动层之上;走线,位于该边框区;周边薄膜晶体管元件,位于该边框区并包括:周边栅极;该第一绝缘层,位于该周边栅极之上;该主动层,位于该第一绝缘层之上;以及该第二金属层,位于该主动层之上;其中该黑色矩阵、该像素栅极、该走线及该周边栅极为第一金属层;像素电极层,位于该第二金属层之上并位于该显示区;以及干涉量测调节器(interferometric modulator,IMOD)位于该像素电极层之上。
地址 中国台湾新竹科学工业园区