一种等离子体增强化学气相沉积装置

摘要

本发明公开了一种等离子体增强化学气相沉积装置，包括反应腔、位于反应腔上方且与反应腔固定连接的遮挡盖、位于遮挡盖之上且与遮挡盖构成密闭空间的维护盒，位于密闭空间内且与遮挡盖固定连接的连接部，以及位于维护盒上方且通过连接杆与维护盒固定连接的反应腔盖加强杆；其中，维护盒包括顶盖以及与顶盖固定连接的盒体；与反应腔盖加强杆固定的连接杆位于封闭空间之外且与维护盒的顶盖固定连接；维护盒的顶盖与连接部固定连接。由于在该等离子体增强化学气相沉积装置中，与反应腔盖加强杆固定的连接杆是在维护盒的封闭空间之外与维护盒的顶盖固定连接的，因此可以避免在维护盒的顶部发生射频泄露和击穿的问题，从而避免出现人员受伤害的危险。

主权项

一种等离子体增强化学气相沉积装置，包括反应腔、位于所述反应腔上方且与所述反应腔固定连接的遮挡盖、位于所述遮挡盖之上且与所述遮挡盖构成密闭空间的维护盒，位于所述密闭空间内且与所述遮挡盖固定连接的连接部，以及位于所述维护盒上方且通过连接杆与所述维护盒固定连接的反应腔盖加强杆，其特征在于：所述维护盒具体包括顶盖以及与所述顶盖固定连接的盒体；与所述反应腔盖加强杆固定的所述连接杆位于所述封闭空间之外且与所述维护盒的顶盖固定连接；所述维护盒的顶盖与所述连接部固定连接。