发明名称 | 尤其用于气体放电光源的电极系统 | ||
摘要 | 本发明涉及电极系统,特别地涉及用于生成EUV辐射和/或软X射线的气体放电装置的电极系统。该电极系统包括由电极材料形成的至少两个电极(1 2),该电极材料包含Mo或W或者Mo或W的合金以作为主要组分。该电极材料具有细晶粒结构,且细晶粒结构具有≤ 500 nm的平均尺寸的细晶粒。利用所提出的电极系统,实现了电极的高的热机械耐受性和高的热化学耐受性。因此,该电极系统可用于使用液态Sn且高温运行的已知EUV光源中。 | ||
申请公布号 | CN102598874B | 申请公布日期 | 2016.02.10 |
申请号 | CN201080048670.0 | 申请日期 | 2010.09.29 |
申请人 | 皇家飞利浦有限公司;优志旺电机株式会社 | 发明人 | C.梅茨马歇尔;J.容克斯;R.T.A.阿佩茨 |
分类号 | H05G2/00(2006.01)I | 主分类号 | H05G2/00(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 景军平;刘鹏 |
主权项 | 一种EUV气体放电光源的电极系统,其包括由电极材料形成的至少两个电极 (1, 2),该电极材料包含Mo或W或者Mo或W的合金以作为主要组分,其中所述电极材料具有细晶粒结构,该细晶粒结构具有≤500 nm的平均尺寸的细晶粒。 | ||
地址 | 荷兰艾恩德霍芬 |