发明名称 |
一种LDI双工件曝光装置 |
摘要 |
本实用新型提供了一种LDI双工件曝光装置,其包括第一保护门、第二保护门、第一工件台与第二工件台;所述第一工件台、第二工件台分别用于固定待曝光的PCB板,所述第一工件台、第二工件台在自身的移动行程范围内对PCB板进行曝光;所述第一保护门、第二保护门分别设于所述第一工件台、第二工件台的上侧,所述第一保护门、第二保护门分别平行且处于不同平面,所述第一保护门、第二保护门可沿自身所在平面位移至所述第二工件台、第一工件台的上侧。本实用新型提供的曝光装置通过设置安全门,避免操作人员触碰到运动中的工件台;还通过保护挡板将工件台隔开,可阻挡操作人员的手误入曝光区域一侧,被运动的吸盘撞到。 |
申请公布号 |
CN205028025U |
申请公布日期 |
2016.02.10 |
申请号 |
CN201520536036.1 |
申请日期 |
2015.07.21 |
申请人 |
合肥芯硕半导体有限公司 |
发明人 |
张磊;王晓光;卫功文 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 |
代理人 |
胡剑辉 |
主权项 |
一种LDI双工件曝光装置,其特征在于,包括第一保护门、第二保护门、第一工件台与第二工件台;所述第一工件台、第二工件台分别用于固定待曝光的PCB板,所述第一工件台、第二工件台分别具有一移动行程,所述第一工件台、第二工件台在自身的移动行程范围内对所述PCB板进行曝光;所述第一保护门、第二保护门分别设于所述第一工件台、第二工件台的上侧并将所述第一工件台、第二工件台的曝光区域遮盖,所述第一保护门、第二保护门分别平行且处于不同平面,所述第一保护门、第二保护门可沿自身所在平面位移至所述第二工件台、第一工件台的上侧。 |
地址 |
230000 安徽省合肥市经济技术开发区锦绣大道北、习友路东 |