发明名称 |
基板处理装置以及处理液赋予方法 |
摘要 |
本发明提供一种能够抑制从移动的喷嘴喷出的处理液的流量发生变动的技术。基板处理装置具有:基板保持部,其将基板保持为大致水平;主扫描机构,其具有沿着大致平行于基板的主扫描方向延伸的主扫描机构引导部、被主扫描机构引导部支撑且能够沿着主扫描方向移动的滑块;喷出部,其被滑块支撑且能够沿着主扫描方向移动,并用于向基板喷出涂敷液;挠性的涂敷液配管,其与喷出部连接且向喷出部引导涂敷液;可动配管支撑部,其支撑涂敷液配管的非端部部分,并且可动配管支撑部的朝向随着主扫描的反复进行引起的滑块周期性运动而周期性地变化。 |
申请公布号 |
CN102992641B |
申请公布日期 |
2016.02.10 |
申请号 |
CN201210210429.4 |
申请日期 |
2012.06.20 |
申请人 |
斯克林集团公司 |
发明人 |
大宅宗明;高村幸宏;相良秀一;伊藤隆介 |
分类号 |
C03C17/00(2006.01)I;C04B41/81(2006.01)I |
主分类号 |
C03C17/00(2006.01)I |
代理机构 |
隆天知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
董雅会;郭晓东 |
主权项 |
一种基板处理装置,其特征在于,具有:基板保持部,其将基板保持为大致水平,主扫描机构,其具有沿着大致平行于所述基板的主扫描方向延伸的引导部、被所述引导部支撑且能够沿着所述主扫描方向移动的移动部,辅助扫描机构,具有沿着所述引导部延伸的辅助引导部、被所述辅助引导部支撑且能够沿着所述主扫描方向移动的辅助移动部,喷出部,其被所述移动部支撑且能够沿着所述主扫描方向移动,并用于向所述基板喷出处理液,挠性的配管,其与所述喷出部连接,并用于向所述喷出部引导处理液,可动配管支撑部,其用于支撑所述配管的非端部部分,并且该可动配管支撑部的朝向随着所述移动部的周期性运动而周期性地变化,所述移动部的周期性运动是因主扫描的反复进行而引起的,驱动部,用于调节所述可动配管支撑部的朝向,控制部,控制所述主扫描机构、所述辅助扫描机构以及所述驱动部,以使所述移动部与所述辅助移动部同步地进行扫描移动,并且使所述可动配管支撑部的朝向随着进行扫描移动的所述移动部以及所述辅助移动部而变化;所述配管上的被所述可动配管支撑部支撑的被支撑部分和与所述喷出部连接的连接部分之间的规定部分,被所述辅助移动部支撑。 |
地址 |
日本国京都府京都市 |