发明名称 | 具有半导电性能的透明、光学可变的干涉颜料 | ||
摘要 | 本发明涉及透明、光学可变、半导电的干涉颜料,特别是薄片状干涉颜料,其包含TiO<sub>2-x</sub>的缺氧层,涉及制备这种颜料的方法,以及涉及如此制备的颜料的用途。 | ||
申请公布号 | CN105324442A | 申请公布日期 | 2016.02.10 |
申请号 | CN201480034218.7 | 申请日期 | 2014.05.28 |
申请人 | 默克专利股份有限公司 | 发明人 | R·如格 |
分类号 | C09C1/00(2006.01)I | 主分类号 | C09C1/00(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 陈晰 |
主权项 | 基于薄片状透明载体的透明、光学可变、半导电的薄片状干涉颜料,所述颜料在载体上具有至少一个包含二氧化钛的层,其中a)薄片状载体具有至少80nm的厚度,基于载体的总重量计有至少80wt%由二氧化硅和/或二氧化硅水合物组成,并且其中TiO<sub>2‑x</sub>的外层位于载体上,其中0.001≤x<0.05,或b)所述薄片状载体至少涂覆有由以下组成的层包‑第一层,由具有n≥1.8折射率的无色材料组成,‑第二层,由具有n<1.8折射率并且≥50nm的几何层厚度的无色材料组成,和‑第三外层,由具有n≥1.8折射率的无色材料组成,其中至少第三外层由TiO<sub>2‑x</sub>组成,和其中0.001≤x<0.05。 | ||
地址 | 德国达姆施塔特 |