发明名称 对参数追踪的计量系统优化
摘要 本文中提出用于评估测量系统通过给定过程窗追踪测量参数的能力的方法及系统。性能评估包含随机扰动、系统扰动或两者以有效地特征化尤其模型误差、计量系统缺陷及校准误差的影响。在一些实例中,计量目标参数被预定为实验设计DOE的部分。比较所述计量目标参数的估计值与已知DOE参数值,以确定特定测量的追踪能力。在一些实例中,所述测量模型通过主分量参数化以减小所述测量模型的自由度的数量。此外,提出用于针对经历过程变化的计量应用优化半导体计量系统的测量能力的示范性方法及系统。
申请公布号 CN105324839A 申请公布日期 2016.02.10
申请号 CN201480035612.2 申请日期 2014.05.19
申请人 科磊股份有限公司 发明人 安德烈·韦尔德曼;安德烈·V·舒杰葛洛夫;格雷戈里·布雷迪;撒迪厄斯·吉拉德·奇乌拉;史帝蓝·潘戴夫;亚历山大·库兹涅佐夫
分类号 H01L21/66(2006.01)I 主分类号 H01L21/66(2006.01)I
代理机构 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人 张世俊
主权项 一种方法,其包括:接收特征化计量系统对计量目标的测量的响应的测量模型,其中所述测量模型包含特征化所述计量目标的一或多个所关注参数及特征化所述计量系统的一或多个系统参数;确定与横跨与所述计量目标相关的所要过程窗的所述一或多个所关注参数中的任何者相关的一组已知值;基于针对所述一或多个所关注参数中的任何者的所述组已知值中的每一者特征化所述计量目标的一组测量的所述测量模型的一组模拟及至少一个扰动信号确定一组经扰动合成测量信号;基于所述组经扰动合成测量信号确定与所述一或多个所关注参数中的每一者相关的估计值;基于与所述一或多个所关注参数中的每一者相关的所述估计值及与所述一或多个所关注参数中的每一者相关的所述已知值确定指示所述计量系统的参数追踪性能的度量;以及将所述度量存储在存储器中。
地址 美国加利福尼亚州