| 摘要 |
エッジ強調型の位相シフトマスクを高い量産性で製造するのに適した位相シフトマスクブランクスを提供する。本発明の位相シフトマスクブランクスＭＢは、ガラス基板Ｓと、ガラス基板の表面に形成された、Ｃｒを主成分とする位相シフト層１１と、ガラス基板から位相シフト層に向かう方向を上とし、位相シフト層上に形成された、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ及びＨｆから選択された少なくとも１種の金属を主成分とするエッチングストッパー層１２と、エッチングストッパー層上に形成された、Ｃｒを主成分とする遮光層１３とを備える。 |
