发明名称 |
少なくとも2つの光学素子を含む波面補正光学配置の製作方法 |
摘要 |
【課題】 波面補正光学配置の効率的な製作が可能な方法を提案する。【解決手段】 少なくとも2つの光学素子(2)を含む波面補正光学配置の製作方法により、光学配置内の全波面誤差が判断され、全波面誤差の許容公差範囲と比較される。光学素子(2)は、個別光学素子(2.1A〜2.1H)が得られるように、それぞれに個々の識別子(9)を割り当てることにより個別化され、個々の面欠陥がすべての個別光学素子(2.1A〜2.1H)上の正しい座標と共に測定され、測定された個々の面欠陥は適切な個別光学素子(2.1A〜2.1H)に割り当てられた正しい座標と共に格納される。個別光学素子(2.1A〜2.1H)を含む光学配置は仮想光学配置(1)として仮想的に製作され、仮想光学配置(1)の全波面誤差が計算される。【選択図】 図1 |
申请公布号 |
JP2016503887(A) |
申请公布日期 |
2016.02.08 |
申请号 |
JP20150548274 |
申请日期 |
2013.12.13 |
申请人 |
イェノプティック オプティカル システムズ ゲーエムベーハー |
发明人 |
ヤン ヴェルシュニック;マルクス アウグシュティン |
分类号 |
G01M11/02;G02B13/00 |
主分类号 |
G01M11/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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