| 摘要 |
Un dispositivo quirúrgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma (1), donde dicho dispositivo generador de plasma (1, 101, 201) comprende: un ánodo (5); un cátodo (7); un canal de plasma (11,111, 211) que se extiende longitudinalmente entre dicho cátodo y a través de dicho ánodo, que tiene una abertura de salida en el extremo más alejado del cátodo; al menos un electrodo intermedio (9', 9", 9"') dispuesto al menos parcialmente entre dicho ánodo y dicho cátodo, donde dicho al menos un electrodo intermedio y dicho ánodo forman al menos una parte del canal de plasma, y dicho al menos un electrodo intermedio está aislado eléctricamente uno de otro y de dicho ánodo; y al menos un canal de refrigeración (23, 123, 223) que se extiende longitudinalmente en el dispositivo, mediante lo cual un líquido refrigerante que circula por dicho canal de refrigeración enfría una porción del dispositivo a la cual el al menos un canal de refrigeración es adyacente, que se caracteriza porque dicho al menos un canal de refrigeración (23, 123, 223) tiene al menos una abertura de salida (25, 125, 225) en el extremo más próximo al ánodo y dicha al menos una abertura de salida (25, 125, 225) del canal de refrigeración (23, 123, 223) está dispuesta muy próxima a la abertura de salida de dicho canal de plasma en el extremo más alejado del cátodo, mediante lo cual el líquido refrigerante que fluye hacia fuera de dicha al menos una abertura de salida del canal de refrigeración restringe un área de un efecto del plasma. |
