A PELLICLE FOR LITHOGRAPHY

摘要

(과제) 마스크에 첩부해도 마스크에 변형을 적게 부여하는 리소그래피용 펠리클을 제공한다. (해결 수단) 본 발명의 리소그래피용 펠리클은, 펠리클 프레임의 일단면에 펠리클막이 장설되고, 다른 일방의 펠리클 프레임 단면에 점착층이 형성되고, 상기 점착제층이 평탄부를 가질 때에, 그 평탄부와 측면이 이루는 각도가 270°이상인 것을 특징으로 한다.