Vorrichtung zum Bedampfen eines Substrates innerhalb einer Vakuumkammer

摘要

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Bedampfen eines Substrates (3) innerhalb einer Vakuumkammer, umfassend mindestens ein Gefäß (1) zur Aufnahme eines Materials (2), welches im Gefäß (1) erhitzt und verdampft wird und eine jedem Gefäß (1) zugeordnete separate Einrichtung (5) zum Erzeugen eines Plasmas, welches den sich vom Gefäß (1) zum Substrat (3) hin ausbreitenden Materialdampf durchdringt. Dabei umfasst die Einrichtung (5) zum Erzeugen des Plasmas genau eine Hohlkathode (6), mindestens eine ringförmige Anode (7), eine zwischen Hohlkathode (6) und ringförmige Anode (7) geschaltete Stromversorgungseinrichtung (8) zum Zünden und Aufrechterhalten einer Hohlkathodenbogenentladung sowie mindestens eine erste ringförmige elektromagnetische Spule (10) und eine zweite ringförmige elektromagnetische Spule (11).