ドーズおよびフォーカス決定方法、検査装置、パターニングデバイス、基板、ならびにデバイス製造方法

摘要

【課題】基板上のリソグラフィプロセスにおいて使用されるリソグラフィ装置の露光ドーズを決定する方法を提供する。【解決手段】基板上におけるリソグラフィ装置の露光ドーズに依存する形状のドーズ感度を有するフィーチャを持つ第１構造を、リソグラフィプロセスを使用して基板上に作成する。リソグラフィ装置の露光ドーズに依存する形状を有するが、露光ドーズに対する感度が第１構造と異なる、ドーズ感度を有するフィーチャを持つ第２構造を、リソグラフィプロセスを使用して基板上に作成する。第１および第２構造を放射で照明しながら散乱放射を検出して第１および第２スキャトロメータ信号を取得する。第１および第２スキャトロメータ信号を使用して、第１および第２構造のうちの少なくとも一方を作成するために使用される露光ドーズ値を決定する。【選択図】図２