| 摘要 |
【課題】 本発明は、半導体製造装置、液晶製造装置、エピ基板製造装置に使用される処理容器内の機器及び処理容器に接続される機器を構成する部材の表面の腐食を防止する腐食防止方法に提供する。【解決手段】 本発明に係る腐食防止方法は、半導体製造装置、液晶製造装置、エピ基板製造装置のようなプロセスガスを使用する装置が具備する処理容器内の機器及び処理容器に接続される機器を構成する部材の表面にアモルファス金属からなる皮膜を形成する皮膜形成工程１００を具備するものである。また、前記皮膜形成工程１００によって部材の表面に前記アモルファス金属の皮膜を形成した後、その表面を平坦化する追加工工程２００を具備するものである。さらにまた、前記皮膜形成工程１００若しくは追加工工程２００の後に、その表面を洗浄する洗浄工程３００を具備するものである。【選択図】 図１ |
