发明名称 基板載置台および基板処理装置
摘要 第1の温度に温度制御される周縁部材(101)と、周縁部材(101)と非接触状態とされて第2の温度に温度制御される部材(102)と、ウエハWの周縁部が載置される周縁載置部材(103)と、ウエハWの部が載置される載置部材(104)とを備え、周縁載置部材(103)および載置部材(104)は、処理分布に対応するように、それぞれ周縁部材(101)および部材(102)とは異なる形状を有し、周縁載置部材(103)の部材(102)側へはみ出した部分は部材(102)との間に隙間が形成されて断熱され、載置部材(104)の周縁部材(101)側へはみ出した部分(104a)は周縁部材(101)との間に隙間(152)が形成されて断熱される。
申请公布号 JPWO2013187192(A1) 申请公布日期 2016.02.04
申请号 JP20140521227 申请日期 2013.05.21
申请人 東京エレクトロン株式会社 发明人 小田桐 正弥;富士原 仁
分类号 H01L21/683;H01L21/302 主分类号 H01L21/683
代理机构 代理人
主权项
地址