| 摘要 |
機能転写体（１４）は、ナノ構造の凹凸構造（１１）を有するキャリア（１０）と、凹凸構造（１１）上に設けられた機能層（１２）とを具備する。凹凸構造（１１）の表面に機能層（１２）を予め設け、機能層（１２）を被処理体（２０）の一主面上に直接当接させ、その後キャリア（１０）を機能層（１２）から除去し被処理体（２０）に機能層（１２）を転写する。凹凸構造（１１）の平均ピッチは１ｎｍ以上１５００ｎｍ以下で、機能層（１２）は樹脂を含み、且つ、機能層（１２）の露出する面側の表面粗さ（Ｒａ）と、凹凸構造（１１）の凸部頂部位置と前記機能層の露出する表面との距離（ｌｏｒ）と、の比率（Ｒａ／ｌｏｒ）が１．２以下である。更に機能層（１２）は凹部（１１ａ）の内部に配置され、その露出面が温度２０℃で且つ遮光下にて非液体状態である。被処理体（２０）上に高精度に機能を付与することが可能である。 |
