发明名称 |
RFパルスエッジ整形 |
摘要 |
無線周波数(RF)生成モジュールは、第1の状態と第2の状態のそれぞれにおいて、RF生成モジュールの出力の第1および第2の所望の振幅を受信するとともに、第1および第2の所望の振幅に基づいて、第1の状態から第2の状態への遷移に対応する入力電力設定点を出力する、電力制御モジュールを備える。周波数制御モジュールは、入力電力設定点を受け取るとともに、入力電力設定点に対応する周波数設定点を出力する。パルス整形モジュールは、入力電力設定点、周波数設定点、およびいつ第1の状態から第2の状態へ遷移するかの指示を受信するとともに、入力電力設定点、周波数設定点、および指示に基づいて、第1の状態から第2の状態へRF生成モジュールの出力を遷移する。 |
申请公布号 |
JP2016503558(A) |
申请公布日期 |
2016.02.04 |
申请号 |
JP20150539775 |
申请日期 |
2013.10.24 |
申请人 |
エムケーエス インストゥルメンツ,インコーポレイテッド |
发明人 |
アミッシュ・ルゴーヌンドン;ラリー・ジェイ・フィスク・セカンド;アーロン・ティ・ラドムスキー |
分类号 |
H05H1/46;C23C16/505;H01L21/3065 |
主分类号 |
H05H1/46 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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