发明名称 RFパルスエッジ整形
摘要 無線周波数(RF)生成モジュールは、第1の状態と第2の状態のそれぞれにおいて、RF生成モジュールの出力の第1および第2の所望の振幅を受信するとともに、第1および第2の所望の振幅に基づいて、第1の状態から第2の状態への遷移に対応する入力電力設定点を出力する、電力制御モジュールを備える。周波数制御モジュールは、入力電力設定点を受け取るとともに、入力電力設定点に対応する周波数設定点を出力する。パルス整形モジュールは、入力電力設定点、周波数設定点、およびいつ第1の状態から第2の状態へ遷移するかの指示を受信するとともに、入力電力設定点、周波数設定点、および指示に基づいて、第1の状態から第2の状態へRF生成モジュールの出力を遷移する。
申请公布号 JP2016503558(A) 申请公布日期 2016.02.04
申请号 JP20150539775 申请日期 2013.10.24
申请人 エムケーエス インストゥルメンツ,インコーポレイテッド 发明人 アミッシュ・ルゴーヌンドン;ラリー・ジェイ・フィスク・セカンド;アーロン・ティ・ラドムスキー
分类号 H05H1/46;C23C16/505;H01L21/3065 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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