| 摘要 |
본 발명은 CMP 헤드용 리테이너링에 관한 것으로, 폴리싱패드와 접하는 트랙면, 상기 트랙면의 폭방향으로 가로질러 요입 형성되며 반경방향을 따라 일정간격을 두고 나선상으로 다수 형성된 그루브를 포함하고, 회전하는 웨이퍼의 이탈을 방지하는 CMP 헤드용 리테이너링에 있어서; 상기 트랙면의 반경방향을 따라 적어도 3지점에서 상기 폴리싱패드와 접촉하는 첨단부(尖端部)를 갖도록 트랙면의 일부는 남기고 나머지는 절삭하여 절삭면을 형성한 것을 특징으로 하는 CMP 헤드용 리테이너링을 제공한다. 본 발명에 따르면, 폴리싱패드와 리테이너링이 접하는 면적이 작아 눌림시 폴리싱패드의 국부적인 리바운드 현상이 방지되며, 리테이너링의 접지면 일부가 절삭 제거된 상태이므로 슬러리의 유동을 버퍼링시킬 수 있어 웨이퍼의 에지부 과연마 현상이 억제되고, 연마작업시 폴리싱패드의 국부적인 리바운드 현상이 방지되므로 웨이퍼의 연마 균일도 및 품질 향상을 기대할 수 있다. |
