发明名称 布线基板的制造方法
摘要 一种布线基板的制造方法,所述布线基板为在绝缘层的表面形成有连接焊盘的电路基板并且在电路基板的表面具有阻焊层且连接焊盘的一部分从阻焊层露出,所述制造方法的特征在于,包括:(A)在绝缘层的表面形成有连接焊盘的电路基板的表面形成阻焊层的工序;(C1)针对阻焊层对在作为后续工序的工序(B1)中被薄膜化的区域以外的部分进行曝光的工序;(B1)利用薄膜化处理液在连接焊盘不露出的范围内对非曝光部的阻焊层进行薄膜化的工序;(C2)针对阻焊层对在作为后续工序的工序(B2)中被薄膜化的区域以外的部分进行曝光的工序;(B2)利用薄膜化处理液对非曝光部的阻焊层进行薄膜化直到变为连接焊盘的厚度以下来露出连接焊盘的一部分的工序;(C5)针对阻焊层对在工序(B2)中薄膜化后的区域部分进行曝光的工序。
申请公布号 CN105309053A 申请公布日期 2016.02.03
申请号 CN201480033751.1 申请日期 2014.06.05
申请人 三菱制纸株式会社 发明人 丰田裕二;后闲宽彦;川合宣行;中川邦弘
分类号 H05K3/28(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I;H01L23/12(2006.01)I 主分类号 H05K3/28(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 王岳;陈岚
主权项 一种布线基板的制造方法,所述布线基板为在绝缘层的表面形成有连接焊盘的电路基板并且在电路基板的表面具有阻焊层且连接焊盘的一部分从阻焊层露出,所述制造方法的特征在于,包括:(A)在绝缘层的表面形成有连接焊盘的电路基板的表面形成阻焊层的工序;(C1)针对阻焊层对在作为后续工序的工序(B1)中被薄膜化的区域以外的部分进行曝光的工序;(B1)利用薄膜化处理液在连接焊盘不露出的范围内对非曝光部的阻焊层进行薄膜化的工序;(C2)针对阻焊层对在作为后续工序的工序(B2)中被薄膜化的区域以外的部分进行曝光的工序;(B2)利用薄膜化处理液对非曝光部的阻焊层进行薄膜化直到变为连接焊盘的厚度以下而露出连接焊盘的一部分的工序;(C5)针对阻焊层对在工序(B2)中薄膜化后的区域部分进行曝光的工序。
地址 日本东京都