一种类金刚石镀膜电容触摸屏及其制备方法

摘要

本发明涉及一种电容触摸屏，尤其涉及一种类金刚石镀膜电容触摸屏及其制备方法，属于触摸屏技术领域。其包括基板，基板上镀有导电层，导电层四个侧边角连接电极，还包括类金刚石膜层，导电层外侧表面上镀有类金刚石膜层。其制备方法包括以下步骤：制作基板、电镀导电层和电镀类金刚石膜层。本发明制备出能够提高电容触摸屏的操作灵敏度和使用寿命，并减少产品厚度、降低成本的电容触摸屏。

主权项

一种类金刚石镀膜电容触摸屏的制备方法，其特征是：包括如下步骤：（1）制作基板：将玻璃基片用真空镀膜前超声波清洗设备经超声波碱洗、纯水漂洗、超声波纯水漂洗等工序清洗，然后在100~200℃下热空气干燥得到制作好的基板（1）；（2）电镀导电层：在一真空室中通入水蒸汽，将制作好的基板（1）放入真空室中并通入氩氧混合气体，然后在基板上电镀导电层（2）；电镀导电层（2）采用两个氧化铟锡陶瓷作为靶，氧化铟锡陶瓷中In₂O₃与SnO₂的重量比为90:10；电镀导电层（2）时真空室温度为100~200℃，真空度为4.0×10^‑1Pa~4.5×10^‑1Pa；氩氧混合气体中氧气的体积比占2~5%，氩气流量为200sccm ~220 sccm，氧气流量为40~110sccm；在导电层（2）四个侧边角连接电极（3）；（3）电镀类金刚石膜层：在真空室中通入甲烷，在完成电镀导电层的基板（1）上的导电层外侧表面电镀类金刚石膜层（4）；电镀类金刚石膜层（4）镀膜时采用石墨作为靶材；镀膜时真空室温度为100~150℃，真空度为10 Pa~30 Pa；甲烷气体流量为20sccm~50sccm；所述导电层（2）的厚度为50~160nm；所述类金刚石膜层（4）的厚度为5~200nm。