发明名称 |
阵列基板及其制造方法、显示面板、显示装置 |
摘要 |
本发明公开一种阵列基板及其制造方法、显示面板、显示装置,属于显示技术领域。阵列基板包括:衬底基板,衬底基板上依次形成有源漏极金属层和第一钝化金属保护层,源漏极金属层包括:源极和漏极,源极和漏极不接触;形成有第一钝化金属保护层的衬底基板上形成有导电保护层;形成有导电保护层的衬底基板上形成有像素电极,像素电极与导电保护层接触。本发明解决了由于第一钝化金属保护层被刻蚀,像素电极与漏极之间的电阻较大的问题,达到了保证像素电极与漏极之间的电阻的效果。本发明用于显示装置的显示。 |
申请公布号 |
CN105304646A |
申请公布日期 |
2016.02.03 |
申请号 |
CN201510679279.5 |
申请日期 |
2015.10.19 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
发明人 |
刘耀;白金超;丁向前;郭会斌;陈曦;王其辉;王静 |
分类号 |
H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 |
代理人 |
鞠永善 |
主权项 |
一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括:衬底基板,所述衬底基板上依次形成有源漏极金属层和第一钝化金属保护层,所述源漏极金属层包括:源极和漏极,所述源极和所述漏极不接触;形成有所述第一钝化金属保护层的衬底基板上形成有导电保护层;形成有所述导电保护层的衬底基板上形成有像素电极,所述像素电极与所述导电保护层接触。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |