发明名称 |
干法刻蚀设备的下部电极基台及干法刻蚀设备 |
摘要 |
本发明提供了一种干法刻蚀设备的下部电极基台及干法刻蚀设备,所述下部电极基台包括:基台基板;基台基板上的多个支撑结构,包括第一支撑部分和第二支撑部分,在第一状态,第一支撑部分的支撑面高于第二支撑部分的支撑面,第二支撑部分的支撑面层叠在第一支撑部分的支撑面下方;在第二状态,第二支撑部分的支撑面高于第一支撑部分的支撑面,第一支撑部分的支撑面层叠在第二支撑部分的支撑面下方;用于控制第一支撑部分和第二支撑部分在第一状态和第二状态之间切换的切换机构。本发明所提供的干法刻蚀设备的下部电极基台,可以减少由于支撑面上沉积异物而导致的压印不良,且不会产生衬底基板损伤问题。 |
申请公布号 |
CN105304446A |
申请公布日期 |
2016.02.03 |
申请号 |
CN201510600235.9 |
申请日期 |
2015.09.18 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
发明人 |
贾丕健 |
分类号 |
H01J37/32(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/32(2006.01)I |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
代理人 |
许静;黄灿 |
主权项 |
一种干法刻蚀设备的下部电极基台,其特征在于,包括:基台基板;位于所述基台基板上的多个支撑结构,所述支撑结构包括第一支撑部分和第二支撑部分,所述第一支撑部分和所述第二支撑部分之间具有第一状态和第二状态,其中,在所述第一状态,所述第一支撑部分的支撑面高于所述第二支撑部分的支撑面,且所述第二支撑部分的支撑面层叠在所述第一支撑部分的支撑面下方;在所述第二状态,所述第二支撑部分的支撑面高于所述第一支撑部分的支撑面,且所述第一支撑部分的支撑面层叠在所述第二支撑部分的支撑面下方;以及,用于控制所述第一支撑部分和所述第二支撑部分在所述第一状态和所述第二状态之间切换的切换机构,所述第一支撑部分和所述第二支撑部分与所述切换机构连接。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |