发明名称 一种阵列基板、其制作方法、及显示装置
摘要 本发明实施例公开了一种阵列基板、其制作方法、及显示装置。该阵列基板包括具有至少一个凹陷区域的透明导电层和位于所述透明导电层上的取向层,所述阵列基板还包括填充于所述透明导电层的至少一个凹陷区域处的填充层。本发明实施例中,由于在透明导电层上的至少一个凹陷区域处有填充层,即凹陷区域处已被填充层所填充,这样在凹陷区域中,填充层所填充的地方就无积蓄的取向层(如PI液),积蓄的取向层就减少了,从而提高了阵列基板上的取向层的均匀性。
申请公布号 CN105304647A 申请公布日期 2016.02.03
申请号 CN201510690237.1 申请日期 2015.10.22
申请人 重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 发明人 顾可可;杨妮;余道平;刘信;苟中平;齐智坚;侯宇松;陈帅;李少茹;胡伟
分类号 H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I 主分类号 H01L27/12(2006.01)I
代理机构 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人 黄志华
主权项 一种阵列基板,所述阵列基板包括具有至少一个凹陷区域的透明导电层和位于所述透明导电层上的取向层,其特征在于,所述阵列基板还包括填充于所述透明导电层的至少一个凹陷区域处的填充层。
地址 400714 重庆市北碚区水土高新技术产业园云汉大道5号附12号