发明名称 |
固态成像器件及其制造方法以及电子设备 |
摘要 |
本发明涉及固态成像器件及其制造方法以及电子设备,所述固态成像器件被构造为能够使成像像素的倾斜入射光特性和相位差检测像素的AF特性都变得优异。所述固态成像器件包括:以矩阵的方式二维地布置的多个成像像素;和分散在所述成像像素之间的相位差检测像素。所述固态成像器件还包括:第一微透镜,所述第一微透镜以分别对应于所述成像像素的方式而形成;平坦化膜,所述平坦化膜形成在所述第一微透镜上且折射率比第一微透镜的折射率更低;和第二微透镜,所述第二微透镜仅在位于所述相位差检测像素上方的位置处形成在平坦化膜上。本发明例如能够应用于CMOS固态成像器件。 |
申请公布号 |
CN105308746A |
申请公布日期 |
2016.02.03 |
申请号 |
CN201480005896.0 |
申请日期 |
2014.03.06 |
申请人 |
索尼公司 |
发明人 |
纳土晋一郎;大塚洋一 |
分类号 |
H01L27/14(2006.01)I;H04N5/357(2006.01)I;H04N5/369(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/14(2006.01)I |
代理机构 |
北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 |
代理人 |
陈桂香;曹正建 |
主权项 |
一种含有相位差检测像素和多个成像像素的固态成像器件,所述成像像素以矩阵构造二维地布置,所述相位差检测像素分散地布置在所述成像像素之间,所述固态成像器件包括:第一微透镜,所述第一微透镜对应于各所述成像像素而形成;平坦化膜,所述平坦化膜的折射率比所述第一微透镜的折射率更低并且所述平坦化膜形成在所述第一微透镜上;和第二微透镜,所述第二微透镜仅形成在所述相位差检测像素的所述平坦化膜上。 |
地址 |
日本东京 |