发明名称 等离子体镀膜设备及其抽气工艺
摘要 一种等离子体镀膜设备及其抽气工艺,其采用并联抽气的电弧钛泵+牵引分子泵+前级泵机组,取代现有技术串联抽气的涡轮分子泵(或扩散泵)+罗茨泵机组。由于电弧钛泵和牵引分子泵都是低能耗泵,加上电弧钛泵仅需在精抽阶段运行,运行时间不到整个抽气时间的1/3,牵引分子泵在镀膜阶段抽气能力大幅度高于涡轮分子泵(或扩散泵),而且牵引分子泵在镀膜阶段的抽速也不会随压强变化而显著变化,因此,本发明大幅度降低抽气能耗,提高了镀膜工艺稳定性和镀膜产品质量;加上电弧钛泵+牵引分子泵+前级泵机组无油蒸汽污染,因此本发明还消除了传统抽气机组的油蒸汽污染,进一步保证了镀膜产品质量。
申请公布号 CN103290388B 申请公布日期 2016.02.03
申请号 CN201310241939.2 申请日期 2013.06.19
申请人 储昕 发明人 储昕
分类号 C23C16/44(2006.01)I;C23C16/50(2006.01)I;C23C14/22(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I 主分类号 C23C16/44(2006.01)I
代理机构 广东国欣律师事务所 44221 代理人 姜胜攀
主权项 一种等离子体镀膜设备,其特征在于,包括镀膜室,所述镀膜室分别连接有电弧钛泵、牵引分子泵和粗抽泵,所述牵引分子泵与一前级泵连接,所述镀膜室和牵引分子泵之间设有一第一真空阀,所述牵引分子泵和前级泵之间设有一第二真空阀,所述镀膜室和粗抽泵之间设有一第三真空阀;所述电弧钛泵包括钛靶以及与所述钛靶连接的阴极弧源基座,所述钛靶设于所述镀膜室之内,所述阴极弧源基座设于所述镀膜室之外,所述阴极弧源基座通过一绝缘垫与所述镀膜室固定连接,所述阴极弧源基座上设有一永久磁铁,所述阴极弧源基座内设有一冷却水槽,所述阴极弧源基座上开设有一与所述冷却水槽连通的进水口和一与所述冷却水槽连通的出水口,所述钛靶和/或阴极弧源基座上开设有至少一与所述镀膜室连通的气孔。
地址 518000 广东省深圳市福田区皇岗中路深大新村1栋502房
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