发明名称 化学放大正型抗蚀剂组合物和图案化方法
摘要 提供化学放大正型抗蚀剂组合物,其包含在溶剂中的具有酸不稳定基团保护的酸性官能团的基本上碱不溶的聚合物、具有1,000-500,000Mw的聚(甲基)丙烯酸酯聚合物、产酸剂。该组合物在基材上形成5-100μm厚的抗蚀剂膜,其可短时显影而在高感光度并且高度的除去或溶解到底部下形成图案。
申请公布号 CN105301905A 申请公布日期 2016.02.03
申请号 CN201510321122.5 申请日期 2015.06.09
申请人 信越化学工业株式会社 发明人 竹村胜也;平野祯典
分类号 G03F7/039(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I 主分类号 G03F7/039(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 杜丽利
主权项 化学放大正型抗蚀剂组合物,其包含(A)有机溶剂、(B)基础树脂和(C)产酸剂,所述基础树脂(B)包含:包含由通式(1)表示的重复单元并且具有1,000‑500,000重均分子量的第一聚合物,和包含由通式(2)表示的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯重复单元并且具有1,000‑500,000重均分子量的第二聚合物,<img file="FDA0000733818500000011.GIF" wi="1496" he="432" />其中R<sup>1</sup>为氢、羟基、直链烷基、支链烷基、卤素或三氟甲基,R<sup>2</sup>为氢、羟基、卤素或三氟甲基,R<sup>3</sup>为C<sub>4</sub>‑C<sub>12</sub>叔烷基,R<sup>4</sup>为氢、任选取代的烷基、任选取代的烷氧基、‑C(CF<sub>3</sub>)<sub>2</sub>‑OH、其中每个烷基基团具有1‑6个碳原子的三烷基甲硅烷氧基、C<sub>4</sub>‑C<sub>20</sub>氧代烷氧基、四氢吡喃基氧基、四氢呋喃基氧基或三烷基甲硅烷氧基,R<sup>5</sup>为氢或甲基,R<sup>6</sup>为氢、甲基、烷氧基羰基、氰基、卤素或三氟甲基,R<sup>7</sup>为C<sub>4</sub>‑C<sub>30</sub>烷基、n为0或1‑4的正整数,m为0或1‑5的正整数,p、r和s各自为0或正数,q为正数,并且p+q+r+s=1,<img file="FDA0000733818500000012.GIF" wi="1480" he="264" />其中R<sup>8</sup>为氢或甲基,并且R<sup>9</sup>为直链、支链或环状的C<sub>1</sub>‑C<sub>24</sub>烷基,或含有氧、硫或氮的C<sub>1</sub>‑C<sub>24</sub>单价有机基团。
地址 日本东京