| 发明名称 | 内衬、内衬的制备方法及反应腔室 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种内衬、内衬的制备方法及反应腔室，上述内衬用于保护反应腔室的内壁不被等离子体腐蚀，其包括内衬本体，以及在所述内衬本体上依次设置的隔热层和耐腐蚀层，所述耐腐蚀层直接与等离子接触。本发明提供的上述内衬的耐腐蚀层中应力较低，微裂纹较少，使耐腐蚀层在使用过程中不易脱落，从而可以提高内衬的可靠性及使用寿命。 | ||
| 申请公布号 | CN105304519A | 申请公布日期 | 2016.02.03 |
| 申请号 | CN201410331091.7 | 申请日期 | 2014.07.11 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 杨盟 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 彭瑞欣;张天舒 |
| 主权项 | 一种内衬，用于保护反应腔室的内壁不被等离子体腐蚀，其特征在于，所述内衬包括内衬本体，以及在所述内衬本体上依次设置的隔热层和耐腐蚀层，所述耐腐蚀层直接与等离子体相接触。 | ||
| 地址 | 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 | ||