| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其包含磨料颗粒、氧化剂、水和如式1所示的甲基苯并三氮唑类化合物；其中，R1＝甲基，R2＝甲基；或R1＝乙基，R2＝乙基；或R1＝丙基，R2＝丙基；或R1＝丁基，R2＝丁基；式1中苯环上的甲基为苯环上任意一个氢被取代了的甲基，且所述的如式1所示的甲基苯并三氮唑类化合物的质量分数为0.15％～0.3％。本发明的化学机械抛光液能够较好的保护铜表面，降低腐蚀缺陷的产生，并且可以有效的减少阻挡层抛光过程中出现的边缘过腐蚀(EOE)现象。<img file="DDA0000541982570000011.GIF" wi="888" he="496" /> | ||
| 申请公布号 | CN105295735A | 申请公布日期 | 2016.02.03 |
| 申请号 | CN201410351226.6 | 申请日期 | 2014.07.23 |
| 申请人 | 安集微电子科技（上海）有限公司 | 发明人 | 姚颖;荆建芬;邱腾飞;高嫄;张建;蔡鑫元 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C23F11/14(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，其特征在于：其包含磨料颗粒、氧化剂、水和如式1所示的甲基苯并三氮唑类化合物；<img file="FDA0000541982540000011.GIF" wi="895" he="504" />其中，R<sub>1</sub>＝甲基，R<sub>2</sub>＝甲基；或R<sub>1</sub>＝乙基，R<sub>2</sub>＝乙基；或R<sub>1</sub>＝丙基，R<sub>2</sub>＝丙基；或R<sub>1</sub>＝丁基，R<sub>2</sub>＝丁基；式1中苯环上的甲基为苯环上任意一个氢被取代了的甲基，且所述的如式1所示的甲基苯并三氮唑类化合物的质量分数为0.15％～0.3％。 | ||
| 地址 | 201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6-9幢底层 | ||