发明名称 一种可改善涂布覆盖不良的光刻胶瓶
摘要 本发明公开了一种可改善涂布覆盖不良的光刻胶瓶,包括密封的内、外两层,外层为带有接口的光刻胶瓶身,内层为软性内囊,用于容纳光刻胶,一氮气管从接口通入瓶身和内囊之间,一光刻胶导管从接口处插入内囊中,瓶身内底部固设有一凹槽形凸起结构,内囊下端具有一与凸起结构的凹槽侧壁对应的开口,并通过其开口与凹槽侧壁密封连接,光刻胶导管下端伸入凸起结构的凹槽内,当内囊受压时,无法接触到导管下端的光刻胶出口造成其堵塞,从而避免了因此问题而导致的气泡和涂布异常现象。
申请公布号 CN105292762A 申请公布日期 2016.02.03
申请号 CN201510724265.0 申请日期 2015.10.29
申请人 上海华力微电子有限公司 发明人 朱治国;朱骏;陈力钧
分类号 B65D77/06(2006.01)I;B65D23/00(2006.01)I;B65D47/06(2006.01)I 主分类号 B65D77/06(2006.01)I
代理机构 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人 吴世华;陈慧弘
主权项 一种可改善涂布覆盖不良的光刻胶瓶,包括密封的内、外两层,外层为带有接口的光刻胶瓶身,内层为软性内囊,用于容纳光刻胶,一氮气管从接口通入瓶身和内囊之间,一光刻胶导管从接口处插入内囊中,其特征在于,所述瓶身内底部固设有一凹槽形凸起结构,所述内囊下端具有一与所述凸起结构的凹槽侧壁对应的开口,并通过所述开口与凹槽侧壁密封连接,所述光刻胶导管下端伸入所述凸起结构的凹槽内。
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