发明名称 |
一种可改善涂布覆盖不良的光刻胶瓶 |
摘要 |
本发明公开了一种可改善涂布覆盖不良的光刻胶瓶,包括密封的内、外两层,外层为带有接口的光刻胶瓶身,内层为软性内囊,用于容纳光刻胶,一氮气管从接口通入瓶身和内囊之间,一光刻胶导管从接口处插入内囊中,瓶身内底部固设有一凹槽形凸起结构,内囊下端具有一与凸起结构的凹槽侧壁对应的开口,并通过其开口与凹槽侧壁密封连接,光刻胶导管下端伸入凸起结构的凹槽内,当内囊受压时,无法接触到导管下端的光刻胶出口造成其堵塞,从而避免了因此问题而导致的气泡和涂布异常现象。 |
申请公布号 |
CN105292762A |
申请公布日期 |
2016.02.03 |
申请号 |
CN201510724265.0 |
申请日期 |
2015.10.29 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
朱治国;朱骏;陈力钧 |
分类号 |
B65D77/06(2006.01)I;B65D23/00(2006.01)I;B65D47/06(2006.01)I |
主分类号 |
B65D77/06(2006.01)I |
代理机构 |
上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 |
代理人 |
吴世华;陈慧弘 |
主权项 |
一种可改善涂布覆盖不良的光刻胶瓶,包括密封的内、外两层,外层为带有接口的光刻胶瓶身,内层为软性内囊,用于容纳光刻胶,一氮气管从接口通入瓶身和内囊之间,一光刻胶导管从接口处插入内囊中,其特征在于,所述瓶身内底部固设有一凹槽形凸起结构,所述内囊下端具有一与所述凸起结构的凹槽侧壁对应的开口,并通过所述开口与凹槽侧壁密封连接,所述光刻胶导管下端伸入所述凸起结构的凹槽内。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |