发明名称 阵列基板、阵列基板的制作方法以及液晶显示面板
摘要 本发明公开了一种阵列基板、阵列基板的制作方法以及液晶显示面板。该阵列基板,包括:衬底基板;形成在所述衬底基板上的多个像素单元,所述像素单元中包括反射区域、透射区域和薄膜晶体管区域;所述反射区域包括形成在所述衬底基板上的有机膜层,以及位于所述有机膜层之上的反射金属层;所述薄膜晶体管区域设置有薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括有机刻蚀阻挡层;所述有机膜层与所述有机刻蚀阻挡层材料相同,且在同一制作工艺步骤中形成。本发明通过相同的材料,在同一制作工艺步骤中同时形成反射区域的有机膜层与薄膜晶体管区域的有机刻蚀阻挡层,能够有效减少一道有机膜制程,简化半反半透液晶显示面板的制作工艺,降低制作成本。
申请公布号 CN105301833A 申请公布日期 2016.02.03
申请号 CN201510875492.3 申请日期 2015.12.02
申请人 上海天马微电子有限公司;天马微电子股份有限公司 发明人 楼均辉;吴天一;孔祥建;符鞠建;黄开;董倩
分类号 G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I 主分类号 G02F1/1335(2006.01)I
代理机构 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人 孟金喆;胡彬
主权项 一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板;形成在所述衬底基板上的多个像素单元,所述像素单元中包括反射区域、透射区域和薄膜晶体管区域;所述反射区域包括形成在所述衬底基板上的有机膜层,以及位于所述有机膜层之上的反射金属层;所述薄膜晶体管区域设置有薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括有机刻蚀阻挡层;所述有机膜层与所述有机刻蚀阻挡层材料相同,且位于同一层。
地址 201201 上海市浦东新区汇庆路888、889号