| 发明名称 | 一种光刻胶组合物和形成光刻图案的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻胶组合物和形成光刻图案的方法。所述组合物包括：聚醚改性的有机硅流平剂、溶剂、光活性物质、有机酸、树脂和颜料分散体。形成光刻图案的方法包括准备一个光纤面板基板，在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物，形成光刻胶组合物层，在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层，施加显影剂，将光刻胶组合物层上的未曝光区域用显影剂去除，形成光刻胶图案。 | ||
| 申请公布号 | CN105301900A | 申请公布日期 | 2016.02.03 |
| 申请号 | CN201510781719.8 | 申请日期 | 2015.11.16 |
| 申请人 | 北京中科紫鑫科技有限责任公司 | 发明人 | 陈哲;任鲁风;殷金龙 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 一种光刻胶组合物，其特征在于，所述光刻胶组合物按重量比为聚醚改性的有机硅流平剂0.4‑0.55份、溶剂20‑23份、光活性物质2‑3份、有机酸1‑2份、树脂16‑18份和颜料分散体20‑21份。 | ||
| 地址 | 101111 北京市大兴区经济技术开发区科创六街88号亦庄生物医药园3号楼608 | ||