发明名称 SULFONIUM SALT-CONTAINING POLYMER RESIST COMPOSITION PATTERNING PROCESS AND SULFONIUM SALT MONOMER AND MAKING METHOD
摘要 본 발명은 하기 일반식(1a), 일반식(2) 및 일반식(3)으로 나타내어지는 반복 단위를 함유하는 고분자 화합물을 제공한다:식 중, R은 H, F, CH또는 CF을 나타낸다. R, R및 R는 직쇄상 또는 분기상의 알킬기, 알케닐기 또는 옥소알킬기, 또는 아릴기, 아랄킬기, 아릴옥소알킬기 또는 4-플루오로페닐기를 나타낸다. R, R및 R중의 임의 2개는 서로 결합하여 식 중의 유황 원자와 함께 고리를 형성하더라도 좋다. 단, R∼R중의 어느 하나 이상은 4-플루오로페닐기를 나타낸다. n은 0∼2의 정수. R은 H, 또는 알킬기를 나타낸다. p는 0 또는 1을 나타낸다. B는 단결합 또는 2가의 유기기를 나타낸다. a는 O∼3의 정수를 나타낸다. b는 1∼3의 정수를 나타낸다, X는 산불안정기를 나타낸다. 본 발명의 술포늄염은 중합 용제에의 용해성이 우수하고, 또한 이것을 이용한 고분자 화합물은 레지스트 용제에의 용해성도 충분히 높다.
申请公布号 KR101591546(B1) 申请公布日期 2016.02.03
申请号 KR20110121267 申请日期 2011.11.18
申请人 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 发明人 오사와 유이치;오하시 마사키;다치바나 세이이치로;하타케야마 준
分类号 C08F20/10;C08F20/38;G03F7/004;G03F7/26 主分类号 C08F20/10
代理机构 代理人
主权项
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