发明名称 Method for Processing Remote Plasma Source Block Having Surfaces Coated by Anodizing and Remote Plasma Source Block
摘要 본 발명은 아노다이징으로 표면 처리된 원격 플라즈마 소스 블록의 가공 방법 및 그에 의한 원격 플라즈마 소스 블록에 관한 것이고, 구체적으로 서브 블록을 형성하여 경로를 가공하고 그리고 아노다이징 공정으로 표면의 물리적 특성이 형성되도록 하는 아노다이징으로 표면 처리된 원격 플라즈마 소스 블록의 가공 방법 및 그에 의한 원격 플라즈마 소스 블록에 관한 것이다. 원격 플라즈마 소스 블록의 가공 방법은 서로 결합이 되어 연결되는 내부 경로를 형성할 수 있는 서브 블록을 성형하는 단계; 내부 경로를 형성하고 그리고 내부 경로의 꺾인 부위에서 곡면을 가공하는 단계; 상기 곡면이 가공된 서브 블록의 표면을 황산 베이스에서 표면 처리를 하는 단계; 및 상기 표면 처리가 된 서브 블록을 결합시키는 단계를 포함한다.
申请公布号 KR101591239(B1) 申请公布日期 2016.02.03
申请号 KR20140025304 申请日期 2014.03.04
申请人 (주)뉴젠텍 发明人 백상천;황석태
分类号 H01L21/02;H01L21/205;H01L21/3065 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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