发明名称 扰流装置
摘要 扰流装置,系具有电镀槽,电镀槽上方架设之位移装置,以及位移装置下方连接之扰流装置,扰流装置系受位移装置带动来回位移,该扰流装置具有复数框体,每一框体系于靠近位移装置移动方向之二侧分别设置有导引斜面,且每一框体内系间隔竖立有复数扰流板,扰流板系位于电镀槽内,且二相邻扰流板之间形成有导流空间,并于扰流板之表面与位移装置所移动方向形成有大于0度之夹角,俾使扰流装置来回位移时,使电镀液于导流空间与电镀槽内畅通流动,进而使得镀件表面之除泡效果大幅提升,提升电镀处理之整体品质,有利于生产制造。
申请公布号 TWM516605 申请公布日期 2016.02.01
申请号 TW104211858 申请日期 2015.07.23
申请人 永煜机械设备股份有限公司 发明人 张文明;余泰贤
分类号 C25D21/10(2006.01) 主分类号 C25D21/10(2006.01)
代理机构 代理人 赖志泓
主权项 一种扰流装置,系具有电镀槽,电镀槽上方架设之位移装置,以及位移装置下方连接之扰流装置,扰流装置系受位移装置带动来回位移,其特征在于:该扰流装置具有复数框体,每一框体内系间隔竖立有复数扰流板,扰流板系位于电镀槽内,且二相邻扰流板之间形成有导流空间,并于扰流板之表面与位移装置所移动方向形成有大于0度之夹角。
地址 桃园市杨梅区梅狮路1段439巷17号