| 发明名称 |
转印薄膜、及使用其之转印成形品 |
| 摘要 |
明提供可控制被转印体之表面光泽度的转印薄膜、及使用其之转印成形品。本发明之转印薄膜(10)具备：具有基材薄膜(1)之脱模薄膜(8)、及积层在该脱模薄膜(8)上之转印层(9)。又，基材薄膜(1)，在转印层(9)侧之面上形成凹凸状。又，脱模薄膜(8)具有光泽度调整脱模层(2)，该光泽度调整脱模层(2)被积层在基材薄膜(1)之转印层(9)侧之面上，且赋予转印层(9)之脱模薄膜(8)侧之面微细的凹凸。
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| 申请公布号 |
TW201604034 |
申请公布日期 |
2016.02.01 |
| 申请号 |
TW104114970 |
申请日期 |
2015.05.12 |
| 申请人 |
凸版印刷股份有限公司 |
发明人 |
柏女惠;渡边学;松田启佑 |
| 分类号 |
B41M5/385(2006.01);B41M3/12(2006.01);B44C1/16(2006.01) |
主分类号 |
B41M5/385(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
丁国隆;黄政诚 |
| 主权项 |
一种转印薄膜，其系具备具有基材薄膜之脱模薄膜、及积层在该脱模薄膜上之转印层之转印薄膜，其特征为：该基材薄膜在该转印层侧之面上形成凹凸状，该脱模薄膜具有光泽度调整脱模层，该光泽度调整脱模层被积层在该基材薄膜之该转印层侧的面上，且赋予该转印层之该脱模薄膜侧之面微细的凹凸。
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| 地址 |
日本 |
