光酸化合物、光酸发生剂与其制备方法以及包含该光酸发生剂的抗蚀剂组成物

摘要

明是有关于一种光酸发生剂以及包含该光酸发生剂的抗蚀剂组成物，其在抗蚀膜的形成过程中调节从曝光区域到非曝光区域的酸的扩散，从而能够减少非曝光表面和曝光表面上的线边缘粗糙度。

主权项

一种下述化学式1的光酸发生剂：

所述化学式1中，Q1和Q1’是各自独立为卤素基；Q2和Q2’是各自独立为氢原子或卤素基；R是氢原子或碳原子数为1-4的烷基；V1和V2是各自独立为氧原子(O)；W1和W2各自独立地选自由碳原子数为1-10的烷基、碳原子数为3-30的环烷基、碳原子数为3-30的芳基、碳原子数为1-10的烷氧基以及它们的组合所组成的群组中；X选自由伸烷基、伸烯基、NR'、S、O、CO以及它们的组合所组成的群组中，R'是氢原子或碳原子数为1-4的烷基；a是1至4的整数，b是0至5的整数，c是1至3的整数，d是1至3的整数；A+是有机抗衡离子。