发明名称 使用气体喷嘴之成膜装置
摘要 明提供一种成膜装置,在呈真空气体环境之纵型的反应容器内,以配置有成棚架状地保持复数片基板之基板保持具的状态,对该反应容器内交互地供给原料气体、及与该原料气体反应而生成反应生成物的反应气体,以于该基板上成膜,具备:第1原料气体喷嘴与第2原料气体喷嘴,沿着该基板之配置方向延伸设置,在与各该基板彼此间的间隙分别对应之高度位置,形成朝向该基板的部喷吐该原料气体之复数之气体喷吐孔;反应气体供给部,供对该反应容器内供给该反应气体所用;第1原料气体供给路与第2原料气体供给路,分别和该第1原料气体喷嘴与第2原料气体喷嘴连接;第1槽与第2槽,分别设置于该第1原料气体供给路之中途与第2原料气体供给路之中途,供在将该原料气体升压的状态下储存该原料气体所用;阀,分别设置于该第1槽之上游侧与下游侧、该第2槽之上游侧与下游侧;以及排气口,供将该反应容器内真空排气所用;在配置该基板之高度区域里,于配置方向的之高度区域,配置该第1原料气体喷嘴及该第2原料气体喷嘴双方之气体喷吐孔,于该之高度区域以外,配置该第1原料气体喷嘴及该第2原料气体喷嘴中至少任一方之气体喷吐孔。
申请公布号 TW201604960 申请公布日期 2016.02.01
申请号 TW104108714 申请日期 2015.03.19
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 本山豊;福岛讲平;松永正信;户根川大和;铃木启介
分类号 H01L21/31(2006.01);C23C16/455(2006.01) 主分类号 H01L21/31(2006.01)
代理机构 代理人 周良谋;周良吉
主权项 一种成膜装置,以在呈真空气体环境之纵型的反应容器内,配置有成棚架状地保持复数片基板之基板保持具的状态,对该反应容器内交互地供给原料气体、及与该原料气体反应而生成反应生成物的反应气体,以于该复数片基板上成膜,具备: 第1原料气体喷嘴与第2原料气体喷嘴,沿着该基板之配置方向延伸设置,在与各该基板彼此间的间隙分别对应之高度位置,形成朝向该基板的中央部喷吐该原料气体的复数之气体喷吐孔; 反应气体供给部,用以对该反应容器内供给该反应气体; 第1原料气体供给路与第2原料气体供给路,分别和该第1原料气体喷嘴与第2原料气体喷嘴连接; 第1槽与第2槽,分别设置于该第1原料气体供给路之中途与第2原料气体供给路之中途,用以在将该原料气体升压的状态下储存该原料气体; 阀,分别设置于该第1槽之上游侧与下游侧、及该第2槽之上游侧与下游侧;以及 排气口,用以将该反应容器内真空排气; 在配置该基板之高度区域里,于配置方向的中央之高度区域,配置该第1原料气体喷嘴与该第2原料气体喷嘴双方之气体喷吐孔,于该中央之高度区域以外,配置该第1原料气体喷嘴与该第2原料气体喷嘴中至少任一方之气体喷吐孔。
地址 日本