发明名称 |
使用气体喷嘴之成膜装置 |
摘要 |
明提供一种成膜装置,在呈真空气体环境之纵型的反应容器内,以配置有成棚架状地保持复数片基板之基板保持具的状态,对该反应容器内交互地供给原料气体、及与该原料气体反应而生成反应生成物的反应气体,以于该基板上成膜,具备:第1原料气体喷嘴与第2原料气体喷嘴,沿着该基板之配置方向延伸设置,在与各该基板彼此间的间隙分别对应之高度位置,形成朝向该基板的部喷吐该原料气体之复数之气体喷吐孔;反应气体供给部,供对该反应容器内供给该反应气体所用;第1原料气体供给路与第2原料气体供给路,分别和该第1原料气体喷嘴与第2原料气体喷嘴连接;第1槽与第2槽,分别设置于该第1原料气体供给路之中途与第2原料气体供给路之中途,供在将该原料气体升压的状态下储存该原料气体所用;阀,分别设置于该第1槽之上游侧与下游侧、该第2槽之上游侧与下游侧;以及排气口,供将该反应容器内真空排气所用;在配置该基板之高度区域里,于配置方向的之高度区域,配置该第1原料气体喷嘴及该第2原料气体喷嘴双方之气体喷吐孔,于该之高度区域以外,配置该第1原料气体喷嘴及该第2原料气体喷嘴中至少任一方之气体喷吐孔。 |
申请公布号 |
TW201604960 |
申请公布日期 |
2016.02.01 |
申请号 |
TW104108714 |
申请日期 |
2015.03.19 |
申请人 |
东京威力科创股份有限公司 |
发明人 |
本山豊;福岛讲平;松永正信;户根川大和;铃木启介 |
分类号 |
H01L21/31(2006.01);C23C16/455(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/31(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
周良谋;周良吉 |
主权项 |
一种成膜装置,以在呈真空气体环境之纵型的反应容器内,配置有成棚架状地保持复数片基板之基板保持具的状态,对该反应容器内交互地供给原料气体、及与该原料气体反应而生成反应生成物的反应气体,以于该复数片基板上成膜,具备: 第1原料气体喷嘴与第2原料气体喷嘴,沿着该基板之配置方向延伸设置,在与各该基板彼此间的间隙分别对应之高度位置,形成朝向该基板的中央部喷吐该原料气体的复数之气体喷吐孔; 反应气体供给部,用以对该反应容器内供给该反应气体; 第1原料气体供给路与第2原料气体供给路,分别和该第1原料气体喷嘴与第2原料气体喷嘴连接; 第1槽与第2槽,分别设置于该第1原料气体供给路之中途与第2原料气体供给路之中途,用以在将该原料气体升压的状态下储存该原料气体; 阀,分别设置于该第1槽之上游侧与下游侧、及该第2槽之上游侧与下游侧;以及 排气口,用以将该反应容器内真空排气; 在配置该基板之高度区域里,于配置方向的中央之高度区域,配置该第1原料气体喷嘴与该第2原料气体喷嘴双方之气体喷吐孔,于该中央之高度区域以外,配置该第1原料气体喷嘴与该第2原料气体喷嘴中至少任一方之气体喷吐孔。 |
地址 |
日本 |