发明名称 |
使用角能量过滤器的角扫描 |
摘要 |
供一种离子植入系统和方法,以用于在一经扫描离子射束冲击一工件的同时变化该经扫描离子射束相对于该工件的一入射角度。该系统系具有经配置以形成一个离子射束的一个离子来源,以及经配置以质量分析该离子射束的一个质量分析器。一个离子射束扫描器系经配置以在一个第一方向上扫描该离子射束,从而用以定义一经扫描离子射束。一个工件支座系经配置以将一个工件支持在其上,并且一个角度植入设备系经配置以变化该经扫描离子射束相对于该工件的一个入射角度。该角度植入设备系包括一个角能量过滤器和操作上被耦合至该工件支座的一个机械设备中的一者或更多,其中一个控制器系控制该角度植入设备,从而在该经扫描离子射束冲击该工件的同时变化该经扫描离子射束相对于该工件的该入射角度。
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申请公布号 |
TW201604912 |
申请公布日期 |
2016.02.01 |
申请号 |
TW104113857 |
申请日期 |
2015.04.30 |
申请人 |
艾克塞利斯科技公司 |
发明人 |
任 克川;毕恩兹 威廉 |
分类号 |
H01J37/147(2006.01);H01J37/20(2006.01);H01J37/317(2006.01) |
主分类号 |
H01J37/147(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
阎启泰;林景郁 |
主权项 |
一种离子植入系统,其系包括:离子来源,其系经配置以形成离子射束;质量分析器,其系经配置以对所述离子射束进行质量分析;离子射束扫描器,其系经配置以沿着第一轴线来扫描所述离子射束,从而定义经扫描离子射束;工件支座,其系经配置以将工件支持于其上;角度植入设备,其中所述角度植入设备系经配置以沿着第二轴线来变化所述经扫描离子射束相对于所述工件的入射角度;以及控制器,其系经配置以控制所述角度植入设备,其中所述控制器系经配置以在所述经扫描离子射束冲击所述工件的同时,变化所述经扫描离子射束相对于所述工件的所述入射角度。
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地址 |
美国 |