涂布装置、涂布方法及记录媒体

摘要

一种可一边保持较短的涂布时间，一边使膜厚之均匀性提升之涂布装置、涂布方法及记忆媒体。
涂布装置，系具备有：旋转保持部；涂布液供给部；及控制部，控制旋转保持部及涂布液供给部。控制部，系执行如下动作：一边以使晶圆(W)旋转的方式，控制旋转保持部，一边以将光阻剂(P1，P2，P3)供给至包围晶圆(W)之旋转中心之包围线上的方式，控制涂布液供给部之动作；在供给光阻剂(P1，P2，P3)之后，以将光阻剂(P4)供给至位于包围线之内侧且包含晶圆(W)之旋转中心之中心区域上的方式，控制涂布液供给部之动作；及在供给光阻剂(P1，P2，P3，P4)之后，以比在供给光阻剂(P1，P2，P3)时具有更大的旋转角速度来使晶圆(W)旋转，藉由此，以将光阻剂(P1，P2，P3，P4)涂布于晶圆(W)周缘侧的方式，控制旋转保持部之动作。

主权项

一种涂布装置，其特征系，具备有：旋转保持部，保持基板而使其旋转；涂布液供给部，对保持于前述旋转保持部之前述基板的表面供给涂布液；及控制部，控制前述旋转保持部及前述涂布液供给部，前述控制部，系执行如下之动作：一边以使前述基板旋转的方式，控制旋转保持部，一边以将前述涂布液供给至包围前述基板之旋转中心之包围线上的方式，控制涂布液供给部之动作；在将前述涂布液供给至前述包围线上之后，以将前述涂布液供给至位于前述包围线之内侧且包含前述基板之旋转中心之中心区域上的方式，控制涂布液供给部之动作；及在将前述涂布液供给至前述包围线上及前述中心区域上两者之后，以比在将前述涂布液供给至前述包围线上时具有更大的旋转角速度来使前述基板旋转，藉由此，以将前述包围线上及前述中心区域上之前述涂布液涂布于前述基板周缘侧的方式，控制前述旋转保持部之动作。