发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 明提供一种半导体装置及其制造方法。上述半导体装置包括第一彩色滤光片,形成于第一感光二极体的上方。一第二彩色滤光片,形成于第二感光二极体的上方。一间隔,位于上述第一彩色滤光片和上述第二彩色滤光片之间。上述间隔会降低第一感光二极体和第二感光二极体之间的串音现象。为了帮助反射且更进一步降低串音现象,可于第一感光二极体和第二感光二极体之间形成一反射栅状物。
申请公布号 TWI520319 申请公布日期 2016.02.01
申请号 TW102113235 申请日期 2013.04.15
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 林政贤;杨敦年;刘人诚;洪丰基;蔡双吉
分类号 H01L27/146(2006.01);H01L21/8238(2006.01) 主分类号 H01L27/146(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项 一种半导体装置,包括:一影像感测器,包括位于一基板中的一第一画素区和一第二画素区,该第一画素区相邻该第二画素区;一第一彩色滤光片,位于该第一画素区的上方;一第二彩色滤光片,位于该第二画素区的上方;以及一间隔,位于该第一彩色滤光片和该第二彩色滤光片之间,其中该间隔为一实心材料的一孔洞。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号