发明名称 |
用于检测试片之电极结构、其制造方法与其所组合成之检测试片 |
摘要 |
明之用于检测试片之电极结构,其包括一基板、一触发层、一第一金属层与一第二金属层。其中,触发层设置于该基板上,第一金属层设置于该触发层上,第二金属层设置于该第一金属层上,并且该触发层与该第一金属层系在该基板上形成一图案。本发明之电极结构系彼此紧密靠合,具有稳定及低阻抗之优点,故可大幅减少数据误判的发生,克服知技术的问题。
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申请公布号 |
TW201604539 |
申请公布日期 |
2016.02.01 |
申请号 |
TW103125068 |
申请日期 |
2014.07.22 |
申请人 |
陈远达 |
发明人 |
陈远达 |
分类号 |
G01N27/30(2006.01);G01N27/327(2006.01) |
主分类号 |
G01N27/30(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种用于检测试片之电极结构,其包括:一基板;一触发层,设置于该基板上;一第一金属层,设置于该触发层上;以及,一第二金属层,设置于该第一金属层上;其中该触发层与该第一金属层系在该基板上形成一图案。
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地址 |
新北市树林区俊英街121巷3号4楼 |