使用双电浆源之电浆产生装置及包括该电浆产生装置之基板处理装置

摘要

使用双电浆源之电浆产生装置及一种包括该电浆产生装置之基板处理装置。电浆产生装置可包括：RF电源，其供应RF信号；电浆腔室，其提供用于产生电浆之空间；第一电浆源，其安置于该电浆腔室之一部分上以产生电浆；以及第二电浆源，其安置于该电浆腔室之另一部分上以产生电浆，其中该第二电浆源包含：复数个气体供应回路，其沿该电浆腔室之圆周安置且其中供应有制程气体，以便将该制程气体供应至该电浆腔室；以及复数个电磁场施加器，其耦接至气体供应回路且接收该RF信号以便由该制程气体产生电浆。

主权项

一种电浆产生装置，其包含：一RF电源，其供应RF信号；一电浆腔室；一第一电浆源，其安置于该电浆腔室之一部分上；以及一第二电浆源，其安置于该电浆腔室之另一部分上，其中，该第二电浆源包含：复数个气体供应回路，其沿该电浆腔室之一周边安置且其中供应有一制程气体，以便将该制程气体供应至该电浆腔室；以及复数个电磁场施加器，该复数个电磁场施加器中之每一者耦接至各别气体供应回路且接收该RF信号以便由该制程气体产生电浆。