投影曝光装置

摘要

一反射折射投影物镜，以将来自物场之图案成像于像场，此物场被设置于投影物镜之物面，而像场被设置于投影物镜之像面，此反射折射投影物镜包括第一物镜部件，供来自该物面之该图案成像为第一中间影像，且第一物镜部件具有第一光瞳面；第二物镜部件，供该第一中间影像成像为第二中间影像，且该第二物镜部件具有第二光瞳面，与第一光瞳面光学地共轭；第三物镜部件，供第二中间影像成像于像面，且第三物镜部件具有第三光瞳面，与第一光瞳面及第二光瞳面光学地共轭；光瞳镜，具有反射光瞳镜表面，位于或接近于第一光瞳面、第二光瞳面与第三光瞳面其中之一；以及，光瞳镜操作器，可操作地连接该光瞳镜，供改变光瞳镜表面之形状，如此可动态校正来自于透镜加热、压缩、或其他辐射导致之成像误差。

主权项

一种投影曝光装置，包括：一光源，产生主要辐射；一照明系统，使该主要辐射产生一照明辐射，入射于具有一图案之一光罩；一反射折射投影物镜，将来自于一物场之一图案成像于一像场，该物场系被设置于该投影物镜之一物面中，该像场系被设置于该投影物镜之一像面中，该反射折射投影物镜包括：一第一物镜部件，被设定来形成一中间影像，且具有一第一光瞳面；一第二物镜部件，被设定以使该中间影像成像于该像面中，且具有一第二光瞳面，与该第一光瞳面光学地共轭；一光瞳镜，具有一反射光瞳镜表面，位于或接近于该第一光瞳面或该第二光瞳面；一光瞳镜操作器，可操作地连接于该光瞳镜，供改变该光瞳镜表面之形状；以及一控制系统，包含一光瞳镜控制单元被设定来控制该光瞳镜操作器，而该控制系统被设定以对应于该照明系统之一所选照明模式来调整该光瞳镜表面。