发明名称 |
光流追踪方法和装置 |
摘要 |
明提供一种光流追踪方法和装置,包括:根据影像上的待追踪物体生成随机结构,随机结构包括相对位置固定的至少两个结构块,各结构块中包含待追踪物体的至少一个特征点;采用光流追踪演算法对随机结构中所有结构块进行追踪,以得到随机结构的位置偏移量;根据随机结构的位置偏移量,估计待追踪物体的目标位置。本发明实施例提供的光流追踪方法和装置,通过获取影像上待追踪物体的特征点,并将各特征点生成随机结构,对各个随机结构进行追踪获得随机结构的位置偏移,从而估计待追踪物体的位置,减少了追踪错误,有效提高了追踪精度。
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申请公布号 |
TWI520078 |
申请公布日期 |
2016.02.01 |
申请号 |
TW103126165 |
申请日期 |
2014.07.31 |
申请人 |
华为技术有限公司 |
发明人 |
颜国雄 |
分类号 |
G06K9/78(2006.01);G06T7/00(2006.01) |
主分类号 |
G06K9/78(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
杨长峯;李国光;张仲谦 |
主权项 |
一种光流追踪方法,其中,包括:根据一影像上的一待追踪物体生成一随机结构,该随机结构包括相对位置固定的至少两个结构块,各该结构块中包含该待追踪物体的至少一个特征点;采用一光流追踪演算法对该随机结构中所有该结构块进行追踪,以得到该随机结构的位置偏移量;根据该随机结构的位置偏移量,估计该待追踪物体的目标位置;其中,所述根据该影像上的该待追踪物体生成该随机结构,具体包括:生成该待追踪物体所在的该影像的一梯度图像;扫描该梯度图像得到该梯度图像的一梯度长条图,根据该梯度长条图,确定平均梯度大于第一设定值的特征点;确定该随机结构包括的该结构块的数目,在平均梯度大于第一设定值的特征点中选择至少一个特征点;根据所选择的特征点在该影像中的位置,该结构块的数目,设定该结构块之间的距离范围,确定该随机结构中所有该结构块对应的特征点;根据该随机结构中所有该结构块对应的特征点生成该随机结构。
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地址 |
中国 |