扫描脉冲退火装置及方法

摘要

用于热处理基板的装置、系统及方法。脉冲电磁能量来源可以至少100Hz的一速率产生脉冲。可移动基板支撑件可相对于电磁能量脉冲移动基板。可设置光学系统于能量来源及可移动基板支撑件之间，且可包含将电磁能量脉冲塑形成一矩形剖面的组件。控制器可命令该电磁能量来源以一选择的脉冲率产生能量脉冲。该控制器也可命令该可移动基板支撑件以一选择的速度在平行于该矩形剖面的一选择的边缘之方向上扫描，使得沿着平行于该选择的边缘之一线上的每个点接收一预先决定数量的电磁能量脉冲。

主权项

一种用于热处理一基板的装置，该装置包括：一脉冲电磁能量来源，该脉冲电磁能量来源以至少100Hz的一速率发出脉冲；一可移动基板支撑件；一光学系统，该光学系统设置于该电磁能量来源及该可移动基板支撑件之间，该光学系统包含将电磁能量的该等脉冲塑形成一矩形剖面的组件；及一控制器，该控制器经配置以：命令该电磁能量来源以一选择的脉冲率产生电磁能量脉冲；及同时命令该可移动基板支撑件以一选择的速度在平行于该矩形剖面的一选择的边缘之方向上扫描，使得沿着平行于该选择的边缘之一线上的每个点接收一预先决定数量的电磁能量脉冲。