| 发明名称 |
减轻缺陷可印刷性之方法以及用于极紫外线微影制程的方法 |
| 摘要 |
部份实施方式，本揭露提供一种方法。此方法包
含装设遮罩于微影系统，其中遮罩包含一维积体电路图案；使用微影系统内之光瞳相位调制器，以调制从遮罩绕射而来的光之相位；以及藉由遮罩与光瞳相位调制器，对微影系统内之目标物执行微影曝光制程。
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| 申请公布号 |
TW201604658 |
申请公布日期 |
2016.02.01 |
| 申请号 |
TW104123110 |
申请日期 |
2015.07.16 |
| 申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
卢彦丞;许家豪;游信胜;陈家桢;陈政宏;严涛南 |
| 分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03F1/24(2012.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
李世章;秦建谱 |
| 主权项 |
一种减轻缺陷可印刷性之方法，包含：装设一遮罩于一微影系统，其中该遮罩包含一一维积体电路(one-dimensional integrated circuit；1D IC)图案；使用该微影系统内之一光瞳相位调制器，以调制从该遮罩绕射而来的光之相位；以及藉由该遮罩与该光瞳相位调制器，对该微影系统内之一目标物执行一微影曝光制程。
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| 地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |
