发明名称 高透射、高孔径折反射投影物镜及投影曝光装置
摘要 折反射投影物镜包含复数光学元件,配置成利用界定操作波长之电磁辐射,于影像侧数值孔径NA,将图案从在物镜之物件表面之物场成像到在物镜之影像表面之影像场。光学元件包含至少一凹面镜具有涂有反射涂层之镜表面、复数透明光学元件包含备有第一抗反射结构之一或更多光学表面,其包含具有折射率梯度之梯度折射率层,在折射率层之基板侧有相对高的折射率,以及在与梯度折射率层之自由表面具有与相邻气体折射率接近之相对低的折射率、以及至少一透明光学元件具有光学表面,系具有建构成多层干涉抗反射涂层之第二抗反射结构。
申请公布号 TW201604657 申请公布日期 2016.02.01
申请号 TW104120133 申请日期 2009.10.15
申请人 卡尔蔡司SMT有限公司 发明人 克瑞墨 丹尼尔;穆勒 劳夫;许凯塔兹 汤马斯;优里奇 威尔汉;艾波 亚历安卓
分类号 G03F7/20(2006.01);G02B17/08(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 李宗德
主权项 一种折反射投影物镜,包含:复数光学元件,配置成利用界定一操作波长λ之电磁辐射,于一影像侧数值孔径NA,将一图案从在该物镜之一物件表面之一物场成像到在该物镜之一影像表面之一影像场,该等光学元件包含:至少一凹面镜,具有涂有一反射涂层之一镜表面;复数透明光学元件,包含一或更多光学表面提供有一第一抗反射结构,其包含具有一折射率梯度之一梯度折射率层,在该梯度折射率层之一基板侧有一相对高的折射率,且在邻近该梯度折射率层之一自由表面具有与一气体之折射率接近之一相对低的折射率;以及至少一透明光学元件,具有一光学表面提供有建构成一多层干涉抗反射涂层之一第二抗反射结构。
地址 德国