发明名称 光罩、光罩之制造方法、光罩基底及显示装置之制造方法
摘要 明可获得有利地适合显示装置制造用光罩之曝光环境,且可稳定地转印微细之图案之优异之光罩及其制造方法。
申请公布号 TW201604643 申请公布日期 2016.02.01
申请号 TW104118949 申请日期 2015.06.11
申请人 HOYA股份有限公司 发明人 今敷修久;吉川裕;菅原浩幸
分类号 G03F1/32(2012.01) 主分类号 G03F1/32(2012.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项 一种光罩,其特征在于:其系具备成膜于透明基板上之藉由使半透光膜及低透光膜分别图案化而形成之转印用图案者,且上述半透光膜使处于i线~g线之波长范围之代表波长之光偏移大约180度,并且对于上述代表波长具有透过率T1(%),上述低透光膜对于上述代表波长之光具有低于上述半透光膜之透过率T1(%)之透过率T2(%),上述转印用图案具有:直径W1(μm)之主图案,其包含使上述透明基板露出之透光部;宽度d(μm)之辅助图案,其配置于上述主图案之附近,且包含于上述透明基板上形成有上述半透光膜之半透光部;及低透光部,其配置于上述转印用图案之除形成有上述主图案及上述辅助图案以外之区域,且于上述透明基板上形成有至少上述低透光膜;且上述转印用图案满足下述之式(1)及(2):0.8≦W1≦4.0...(1)
地址 日本