| 发明名称 |
图案化透明导体及相关组成物以及制造方法 |
| 摘要 |
图案化透明导体之制造方法包含：(1)提供一透明导体，其含有由一金属形成之奈米线；及(2)使一抑制渗漏组成物施用至透明导体之一部份，以使包含于此部份内之奈米线部份降解。抑制渗漏组成物含有用于此金属之一错合剂。
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| 申请公布号 |
TW201604898 |
申请公布日期 |
2016.02.01 |
| 申请号 |
TW104118499 |
申请日期 |
2015.06.08 |
| 申请人 |
英诺瓦动力股份有限公司 |
发明人 |
尹 熙昶;昆德拉特 詹姆斯;洛克斯利 安德烈;史利尼维斯 阿琼Ｄ;伦札斯 Ｊ 卢梭;伯奇特 詹姆斯Ｗ;彭 生;辛德费尔 芬凯特;柯恩布雷基 雷夫Ｅ;安德森 克里斯多福Ｌ |
| 分类号 |
H01B1/22(2006.01) |
主分类号 |
H01B1/22(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
恽轶群;陈文郎 |
| 主权项 |
一种图案化透明导体之制造方法，包含：提供一透明导体，其含有由一金属形成之奈米线；及使一抑制渗漏组成物施用至该透明导体之一部份，以部份降解包含于该部份内之奈米线，其中，该抑制渗漏组成物包含用于该金属之一错合剂。
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| 地址 |
美国 |
